文献
J-GLOBAL ID:200902271174612086
整理番号:07A0959887
IMECにおける現実へ転換する全場EUVリソグラフィー
Full field EUV lithography turning into a reality at IMEC
著者 (11件):
JONCKHEERE Rik
(IMEC, Leuven, BEL)
,
LORUSSO Gian Francesco
(IMEC, Leuven, BEL)
,
GOETHALS Anne Marie
(IMEC, Leuven, BEL)
,
HERMANS Jan
(IMEC, Leuven, BEL)
,
BAUDEMPREZ Bart
(IMEC, Leuven, BEL)
,
MYERS Alan
(Intel Corp.)
,
KIM Insung
(Samsung Electronics)
,
NIROOMAND Ardavan
(Micron Technol.)
,
IWAMOTO Fumio
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.)
,
STEPANENKO Nickolay
(Qimonda)
,
RONSE Kurt
(IMEC, Leuven, BEL)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6607
号:
Pt.1
ページ:
66070H.1-66070H.15
発行年:
2007年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)