文献
J-GLOBAL ID:200902271222192930
整理番号:08A0711158
投射マスク不要リソグラフィー(PML2): 概念実証設備と最初の実験結果
Projection Mask-Less Lithography (PML2): Proof-of-Concept Setup and first experimental Results
著者 (13件):
KLEIN C.
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
PLATZGUMMER E.
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
LOESCHNER H.
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
GROSS G.
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
DOLEZEL P.
(Delong Instruments, Brno, CZE)
,
TMEJ M.
(Delong Instruments, Brno, CZE)
,
KOLARIK V.
(Delong Instruments, Brno, CZE)
,
KLINGLER W.
(Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU)
,
LETZKUS F.
(Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU)
,
BUTSCHKE J.
(Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU)
,
IRMSCHER M.
(Inst. Mikroelektronik Stuttgart-ims chips, Stuttgart, DEU)
,
WITT M.
(Fraunhofer Inst. Siliziumtechnologie, Itzehoe, DEU)
,
PILZ W.
(Fraunhofer Inst. Siliziumtechnologie, Itzehoe, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6921
号:
Pt.1
ページ:
69211O.1-69211O.8
発行年:
2008年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)