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文献
J-GLOBAL ID：200902271241070749
整理番号：05A0599738
低温反応性スパッタリングにより成長させた窒化アルミニウム薄膜の微視的研究
Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering
GUO Q.x.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Sci. and Engineering, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN)
,
YOSHITUGU M.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Sci. and Engineering, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN)
,
TANAKA T.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Sci. and Engineering, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN)
,
NISHIO M.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Sci. and Engineering, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN)
,
OGAWA H.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Sci. and Engineering, Saga Univ., Saga 840-8502, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 483 号： 1-2 ページ： 16-20 発行年： 2005年07月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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