文献
J-GLOBAL ID:200902271549494701
整理番号:06A0578491
トップコートの無い193nm液浸レジストの評価
Evaluation of 193nm immersion resist without topcoat
著者 (5件):
WEI Yayi
(Infineon Technol. North America Corp. at Albany, NY)
,
STEPANENKO N.
(Infineon Technol. SC300 GmbH & Co. OHG, Dresden)
,
LAESSIG A.
(Infineon Technol. SC300 GmbH & Co. OHG, Dresden)
,
VOELKEL L.
(Infineon Technol. SC300 GmbH & Co. OHG, Dresden)
,
SEBALD M.
(Infineon Technol. AG, Erlangen)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6153
号:
Pt.1
ページ:
615305.1-615305.11
発行年:
2006年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)