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文献
J-GLOBAL ID：200902271977670778
整理番号：04A0164226
低温でのAl2O3原子層蒸着
Low-Temperature Al2O3 Atomic Layer Deposition
GRONER M D
(Univ. Colorado, Colorado)
,
FABREGUETTE F H
(Univ. Colorado, Colorado)
,
ELAM J W
(Univ. Colorado, Colorado)
,
GEORGE S M
(Univ. Colorado, Colorado)
資料名：
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻： 16 号： 4 ページ： 639-645 発行年： 2004年02月24日
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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