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文献
J-GLOBAL ID：200902272019833005
整理番号：06A0890160
β-りん酸三カルシウムの高周波スパッタリングによって形成される薄膜
Thin Films formed by Radiofrequency Sputtering of β-tricalcium phosphate
KIMOTO Katsuhiko
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
,
WATAZU Akira
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
,
WATAZU Akira
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Nagoya, JPN)
,
TANAKA Kinya
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
,
SONODA Tsutomu
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Nagoya, JPN)
,
KUSHIDA Sachio
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
,
HOSHI Noriyuki
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
,
SAWADA Tomoji
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
,
TOYODA Minoru
(Kanagawa Dental Coll., Yokosuka, JPN)
資料名：
Prosthodontic Research & Practice
(Prosthodontic Research & Practice)
巻： 5 号： 3 ページ： 137-142 発行年： 2006年07月
JST資料番号： L4690A ISSN： 1347-7021 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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