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文献
J-GLOBAL ID：200902272433901810
整理番号：05A0573084
KrFならびにXeClエキシマレーザアニーリングによる酸化すず薄膜の(001)TiO2基板上のエピタキシャル成長
Epitaxial growth of tin oxide films on (001) TiO2 substrates by KrF and XeCl excimer laser annealing
TSUCHIYA T.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)
,
WATANABE A.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)
,
KUMAGAI T.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)
,
MIZUTA S.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 248 号： 1-4 ページ： 118-122 発行年： 2005年07月30日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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