文献
J-GLOBAL ID:200902272844206307
整理番号:05A0653642
193nm浸漬リソグラフィーにおける画質に及ぼす気泡誘起光散乱の効果
Air bubble-induced light-scattering effect on image quality in 193 nm immersion lithography.
著者 (5件):
FAN Yongfa
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
,
LAFFERTY Neal
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
,
BOUROV Anatoly
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
,
ZAVYALOVA Lena
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
,
SMITH Bruce W
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
資料名:
Applied Optics
(Applied Optics)
巻:
44
号:
19
ページ:
3904-3911
発行年:
2005年07月01日
JST資料番号:
B0026B
ISSN:
1559-128X
CODEN:
APOPAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)