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文献
J-GLOBAL ID：200902272857291150
整理番号：05A0264483
フロントエンドオブラインウエハアラインメントマークの厳密結合波解析
Rigorous coupled wave analysis of front-end-of-line wafer alignment marks
YEO S H
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
TAN C B
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
KHOH A
(Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd., Singapore)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 23 号： 1 ページ： 186-195 発行年： 2005年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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