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J-GLOBAL ID：200902273171991577 整理番号：07A0474245

二次元GaAs/AlGaAsフォトニック結晶スラブのナノメータスケールの空気孔アレイの精密なドライエッチング制御

Precise control of dry etching for nanometer scale air-hole arrays in two-dimensional GaAs/AlGaAs photonic crystal slabs

著者 (10件)：

IKEDA Naoki

(Center for Tsukuba Advanced Res. Alliance, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennoudai, Tsukuba 305-8577, JPN)

,

IKEDA Naoki

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba 305-8568, JPN)

,

SUGIMOTO Yoshimasa

(Center for Tsukuba Advanced Res. Alliance, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennoudai, Tsukuba 305-8577, JPN)

,

SUGIMOTO Yoshimasa

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba 305-8568, JPN)

,

WATANABE Yoshinori

(Center for Tsukuba Advanced Res. Alliance, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennoudai, Tsukuba 305-8577, JPN)

,

OZAKI Nobuhiko

(Center for Tsukuba Advanced Res. Alliance, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennoudai, Tsukuba 305-8577, JPN)

,

TAKATA Yoshiaki

(Center for Tsukuba Advanced Res. Alliance, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennoudai, Tsukuba 305-8577, JPN)

,

TANAKA Yu

(Fujitsu Laboratories Ltd., Atsugi 243-0197, JPN)

,

INOUE Kuon

(Chitose Inst. of Sci. and Technol., Chitose 066-8655, JPN)

,

ASAKAWA Kiyoshi

(Center for Tsukuba Advanced Res. Alliance, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennoudai, Tsukuba 305-8577, JPN)

資料名：

Optics Communications (Optics Communications)

巻： 275 号： 1 ページ： 257-267 発行年： 2007年07月01日
JST資料番号： A0678B ISSN： 0030-4018 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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