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文献
J-GLOBAL ID：200902273556085216
整理番号：06A0578541
けい素を含む材料を使う二重露光技術
Double exposure technology using silicon containing materials
LEE Sungkoo
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
JUNG Jaechang
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
CHO Sungyoon
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
LIM Chang-Moon
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
BOK Cheolkyu
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
KIM Hyeongsoo
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
MOON Seungchan
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
,
KIM Jinwoong
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6153 号： Pt.1 ページ： 61531K.1-61531K.7 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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