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文献
J-GLOBAL ID:200902273556085216   整理番号:06A0578541

けい素を含む材料を使う二重露光技術

Double exposure technology using silicon containing materials
著者 (8件):
LEE Sungkoo
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
JUNG Jaechang
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
CHO Sungyoon
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
LIM Chang-Moon
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
BOK Cheolkyu
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
KIM Hyeongsoo
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
MOON Seungchan
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)
KIM Jinwoong
(Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 6153  号: Pt.1  ページ: 61531K.1-61531K.7  発行年: 2006年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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