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文献
J-GLOBAL ID：200902273734044421
整理番号：04A0003003
インジウム2-エチルヘキサノエートモノヒドロキシドを用いたディップコーティング法によって作製した酸化インジウム薄膜
Formation of indium oxide thin films fabricated by a dip-coating process using indium 2-ethylhexanoate monohydroxide
SHIGENO E
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
SEKI S
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
SHIMIZU K
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
SAWADA Y
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
OGAWA M
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
SHIDA A
(Yokohama City Center for Industrial Technol. and Design, Yokohama, JPN)
,
IDE M
(Yokohama City Center for Industrial Technol. and Design, Yokohama, JPN)
,
YAJIMA A
(Asahi Denka Kogyo Co. Ltd., Tokyo, JPN)
,
YOSHINAKA A
(Asahi Denka Kogyo Co. Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 169/170 ページ： 566-570 発行年： 2003年06月02日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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