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文献
J-GLOBAL ID：200902273991451135
整理番号：06A0206711
ポリアミック酸の直接パターニングと光塩基発生剤を用いた低温イミド化
Direct patterning of poly(amic acid) and low-temperature imidization using a photo-base generator
UEDA Mitsuru
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SHIBASAKI Yuji
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
FUKUKAWA Ken-ichi
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Polymers for Advanced Technologies
(Polymers for Advanced Technologies)
巻： 17 号： 2 ページ： 131-136 発行年： 2006年02月
JST資料番号： W0503A ISSN： 1042-7147 CODEN： PADTE5 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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