文献
J-GLOBAL ID:200902274009496852
整理番号:08A1105100
平均粗さがオングストローム尺度の超平坦シリカ表面の非断熱光学近接場エッチングによる実現
Realization of an ultra-flat silica surface with angstrom-scale average roughness using nonadiabatic optical near-field etching
著者 (6件):
YATSUI T.
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
HIRATA K.
(Sigma Koki Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
NOMURA W.
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
TABATA Y.
(Sigma Koki Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
OHTSU M.
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
OHTSU M.
(JST-SORST, Tokyo, JPN)
資料名:
Applied Physics. B. Lasers and Optics
(Applied Physics. B. Lasers and Optics)
巻:
93
号:
1
ページ:
55-57
発行年:
2008年10月
JST資料番号:
E0501B
ISSN:
0946-2171
CODEN:
APBOEM
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)