文献
J-GLOBAL ID:200902274382570663
整理番号:09A0136208
ガス流パターンの改良によるプラズマプロセス槽内の高速ガス交換
Fast Gas Replacement in Plasma Process Chamber by Improving Gas Flow Pattern
著者 (6件):
MORISHITA Sadaharu
(OMRON Corp., Tokyo, JPN)
,
GOTO Tetsuya
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
AKUTSU Isao
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OHYAMA Kenji
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
ITO Takashi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OHMI Tadahiro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
48
号:
1
ページ:
016003.1-016003.5
発行年:
2009年01月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)