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文献
J-GLOBAL ID：200902274414271868
整理番号：07A0478790
Cu(Ti)合金膜中のTiに富む界面層の自己形成
Self-Formation of Ti-rich Interfacial Layers in Cu(Ti) Alloy Films
ITO Kazuhiro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TSUKIMOTO Susumu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MURAKAMI Masanori
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46 号： 4B ページ： 1942-1946 発行年： 2007年04月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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