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文献
J-GLOBAL ID：200902274977880062
整理番号：07A1191176
酸素ラジカルを用いた反応性RFマグネトロンスパッタリングによるTiO2薄膜の成長
Growth of TiO2 thin film by reactive RF magnetron sputtering using oxygen radical
OGAWA H.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
,
HIGUCHI T.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
,
NAKAMURA A.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
,
TOKITA S.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
,
MIYAZAKI D.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
,
HATTORI T.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
,
TSUKAMOTO T.
(Dep. of Applied Physics, Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162-8601, JPN)
資料名：
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻： 449 号： 1-2 ページ： 375-378 発行年： 2008年01月31日
JST資料番号： D0083A ISSN： 0925-8388 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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