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文献
J-GLOBAL ID：200902275080458810
整理番号：05A0581634
HF化学エッチングにより調べたHfO2薄膜のナノメータスケールでの結晶化
Nanometer-scale crystallization of thin HfO2 films studied by HF-chemical etching
FUJII Shinji
(Assoc. of Super-Advanced Electronics Technol. (ASET), Tsukuba, JPN)
,
MIYATA Noriyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (ASRC, AIST), Tsukuba, JPN)
,
MIGITA Shinji
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (ASRC, AIST), Tsukuba, JPN)
,
HORIKAWA Tsuyoshi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (ASRC, AIST), Tsukuba, JPN)
,
TORIUMI Akira
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (ASRC, AIST), Tsukuba, JPN)
,
TORIUMI Akira
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 86 号： 21 ページ： 212907.1-212907.3 発行年： 2005年05月23日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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