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J-GLOBAL ID：200902275244085076 整理番号：03A0398667

パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT

Novel high-performance TFTs fabricated by selectively enlarging laser x’tallization(SELAX) technology

著者 (5件)：

山口伸也

(日立中研)

波多野睦子

(日立中研)

PARK S-K

(日立中研)

田井光春

(日立中研)

芝健夫

(日立中研)

資料名：

電子情報通信学会技術研究報告 (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻： 103 号： 5(SDM2003 1-7) ページ： 23-28 発行年： 2003年04月14日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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