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文献
J-GLOBAL ID：200902275615153320
整理番号：05A0341764
マグネトロンスパッタリングによるアナターゼ/ルチル-TiO2薄膜の調製と特性化 レビュー
Fabrication and characterization of anatase/rutile-TiO2 thin films by magnetron sputtering: a review
TANEMURA Sakae
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
MIAO Lei
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
WUNDERLICH Wilfried
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
TANEMURA Masaki
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
MORI Yukimasa
(NGK Insulators Ltd, Nagoya, JPN)
,
TOH Shoichi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KANEKO Kenji
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名：
Science and Technology of Advanced Materials
(Science and Technology of Advanced Materials)
巻： 6 号： 1 ページ： 11-17 発行年： 2005年01月
JST資料番号： W1262A ISSN： 1468-6996 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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