前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：200902275702528462
整理番号：05A0677921
TaF5とSi2H6を用いたSiO2上でのTaSix薄膜の原子層堆積
Atomic layer deposition of TaSi x thin films on SiO2 using TaF5 and Si2H6
LEMONDS A.m.
(Dep. of Chemical Engineering, The Univ. of Texas at Austin, USA)
,
BOLOM T.
(Dep. of Chemical Engineering, The Univ. of Texas at Austin, USA)
,
AHEARN W.j.
(Dep. of Chemical Engineering, The Univ. of Texas at Austin, USA)
,
GAY D.c.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry, The Univ. of Texas at Austin, Austin, 78712 TX, USA)
,
WHITE J.m.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry, The Univ. of Texas at Austin, Austin, 78712 TX, USA)
,
EKERDT J.g.
(Dep. of Chemical Engineering, The Univ. of Texas at Austin, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 488 号： 1-2 ページ： 9-14 発行年： 2005年09月22日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。