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文献
J-GLOBAL ID：200902275841285000
整理番号：09A0055121
フラーレングラフト化光酸発生剤(PAG)結合重合体レジスト
Fullerene Grafted Photoacid Generator (PAG) Bound Polymer Resists
WANG Mingxing
(Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
,
LEE Cheng-Tsung
(Georgia Inst. Technol. Atlanta, Georgia, USA)
,
HENDERSON Clifford L.
(Georgia Inst. Technol. Atlanta, Georgia, USA)
,
GONSALVES Kenneth E
(Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 21 号： 6 ページ： 747-751 発行年： 2008年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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