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文献
J-GLOBAL ID：200902275974479827
整理番号：04A0470977
熱電材料の薄膜形成過程における熱伝導率インプロセス測定に関する研究(第3報 サブミクロン薄膜用装置の開発)
Development of in situ Meaurement Technique to Evaluate Thermal Conductivity of Thermoelectric Device during Thin Film Production Process (3rd Report, Development of Apparatus for Measuring Submicron Thin Films)
長島雅幸
(慶応大 大学院)
,
実川仁美
(慶応大 理工)
,
長坂雄次
(慶応大 理工)
,
吉田隆
(名古屋大 工)
,
須藤公彦
(中部TLO日立機研分室)
,
中里典生
(中部TLO日立機研分室)
資料名：
日本伝熱シンポジウム講演論文集
巻： 41st 号： Vol.3 ページ： 637-638 発行年： 2004年05月26日
JST資料番号： F0872C 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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