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文献
J-GLOBAL ID：200902276011098964
整理番号：04A0874734
多結晶シリコンにおける結晶粒界の電子ビーム誘起電流による研究
Electron-beam-induced current study of grain boundaries in multicrystalline silicon
CHEN J
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
SEKIGUCHI T
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
YANG D
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
YIN F
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
KIDO K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TSUREKAWA S
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 96 号： 10 ページ： 5490-5495 発行年： 2004年11月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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