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文献
J-GLOBAL ID：200902278139776828
整理番号：03A0161613
電子線励起プラズマCVDで作製したダイヤモンド状炭素膜の応力と構造特性
Stress and structural properties of diamond-like carbon films deposited by electron beam excited plasma CVD.
BAN M
(Kawasaki Heavy Ind., Ltd., Chiba, JPN)
,
HASEGAWA T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
FUJII S
(Kawasaki Heavy Ind., Ltd., Chiba, JPN)
,
FUJIOKA J
(Kawasaki Heavy Ind., Ltd., Chiba, JPN)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 12 号： 1 ページ： 47-56 発行年： 2003年01月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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