文献
J-GLOBAL ID:200902279041433104
整理番号:05A0896077
Cu表面近傍におけるH-イオン残存に対するバンドギャップ効果
Band gap effect on H- ion survival near Cu surfaces
著者 (4件):
BAHRIM B.
(Dep. of Chemistry and Physics, Lamar Univ., P.O. Box 10022, Beaumont, TX 77710, USA)
,
MAKARENKO B.
(Dep. of Chemistry, Univ. of Houston, Houston, TX 77204, USA)
,
RABALAIS J.w.
(Dep. of Chemistry and Physics, Lamar Univ., P.O. Box 10022, Beaumont, TX 77710, USA)
,
RABALAIS J.w.
(Dep. of Chemistry, Univ. of Houston, Houston, TX 77204, USA)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
594
号:
1-3
ページ:
62-69
発行年:
2005年12月01日
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)