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文献
J-GLOBAL ID：200902279597479430
整理番号：04A0543851
フォトナノインプリントリソグラフィーにおけるドライエッチングでの光硬化ポリマのパターン収縮率と粗さの減少
Reducing Photocurable Polymer Pattern Shrinkage and Roughness during Dry Etching in Photo-Nanoimprint Lithography
KIM S H
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
HIROSHIMA H
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
INOUE S
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KURASHIMA Y
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KOMURO M
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 6B ページ： 4022-4026 発行年： 2004年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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