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文献
J-GLOBAL ID:200902279889565841   整理番号:07A0802361

ウエハ融解AlGaAs/GaAs/GaNヘテロ接合バイポーラトランジスタにおける利得劣化機構

Gain degradation mechanisms in wafer fused AlGaAs/GaAs/GaN heterojunction bipolar transistors
著者 (5件):
LIAN Chuanxin
(Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Notre Dame, Notre Dame, Indiana 46556)
XING Huili Grace
(Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Notre Dame, Notre Dame, Indiana 46556)
WANG Chad S.
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106)
BROWN David
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106)
MCCARTHY Lee
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 91  号:ページ: 063502-1-063502-3  発行年: 2007年08月06日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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