文献
J-GLOBAL ID:200902279889565841
整理番号:07A0802361
ウエハ融解AlGaAs/GaAs/GaNヘテロ接合バイポーラトランジスタにおける利得劣化機構
Gain degradation mechanisms in wafer fused AlGaAs/GaAs/GaN heterojunction bipolar transistors
著者 (5件):
LIAN Chuanxin
(Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Notre Dame, Notre Dame, Indiana 46556)
,
XING Huili Grace
(Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Notre Dame, Notre Dame, Indiana 46556)
,
WANG Chad S.
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106)
,
BROWN David
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106)
,
MCCARTHY Lee
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
91
号:
6
ページ:
063502-1-063502-3
発行年:
2007年08月06日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)