文献
J-GLOBAL ID:200902280262939671
整理番号:08A0031549
HMDSプライマにより処理された疎水性基板の湿潤解析
Wetting Analysis of Hydrophobic Substrate treated by HMDS Primer
著者 (2件):
KAWAI Akira
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
KAWAKAMI Junko
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
20
号:
6
ページ:
815-816
発行年:
2007年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)