文献
J-GLOBAL ID:200902280396424937
整理番号:08A1215037
選択的なフォトクロミック可能なジアリールエテンの堆積に基づくマスクレスの金属パターン形成
Metal patterning using maskless vacuum evaporation process based on selective deposition of photochromic diarylethene
著者 (4件):
TAKAGI Rie
(Dep. of Arts and Sciences, Fac. of Education, Osaka Kyoiku Univ. and CREST, Japan Sci. and Technol. Agency ...)
,
MASUI Kyoko
(Dep. of Arts and Sciences, Fac. of Education, Osaka Kyoiku Univ. and CREST, Japan Sci. and Technol. Agency ...)
,
NAKAMURA Shinichiro
(Mitsubishi Chemical Group Sci. and Technol. Res. Center, Inc. and CREST, Japan Sci. and Technol. Agency, Kamoshida ...)
,
TSUJIOKA Tsuyoshi
(Dep. of Arts and Sciences, Fac. of Education, Osaka Kyoiku Univ. and CREST, Japan Sci. and Technol. Agency ...)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
93
号:
21
ページ:
213304
発行年:
2008年11月24日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)