文献
J-GLOBAL ID:200902281484423998
整理番号:05A0494966
伝導性ナノパターン形成のための前駆体高分子膜のナノリソグラフィー電解重合
Nanolithographic Electropolymerization of a Precursor Polymer Film to Form Conducting Nanopatterns
著者 (3件):
JEGADESAN Subbiah
(National Univ. Singapore, SGP)
,
ADVINCULA Rigoberto C
(Univ. Houston, TX, USA)
,
VALIYAVEETTIL Suresh
(National Univ. Singapore, SGP)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
17
号:
10
ページ:
1282-1285
発行年:
2005年05月13日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)