文献
J-GLOBAL ID:200902281661736918
整理番号:06A0222203
コロイドリソグラフィーを用いて製作した超平坦三成分ナノパターン
Ultraflat Ternary Nanopatterns Fabricated Using Colloidal Lithography
著者 (4件):
WRIGHT Jonathan P
(Fujirebio, Inc., Tokyo, JPN)
,
WORSFOLD Oliver
(Fujirebio, Inc., Tokyo, JPN)
,
WHITEHOUSE Conor
(Fujirebio, Inc., Tokyo, JPN)
,
HIMMELHAUS Michael
(Fujirebio, Inc., Tokyo, JPN)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
18
号:
4
ページ:
421-426
発行年:
2006年02月17日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)