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文献
J-GLOBAL ID：200902282133591220
整理番号：08A0273150
けい素および炭素基板上の多くの相を含むWC薄膜の化学蒸着
Chemical vapor deposition of phase-rich WC thin films on silicon and carbon substrates
BEADLE Kendra A.
(Dep. of Chemical Engineering, Center for Catalytic Sci. and Technol. (CCST), Univ. of Delaware, Newark, DE 19716, USA)
,
GUPTA Rahul
(Dep. of Chemical Engineering, Center for Catalytic Sci. and Technol. (CCST), Univ. of Delaware, Newark, DE 19716, USA)
,
MATHEW Anoop
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Delaware, Newark, DE 19716, USA)
,
CHEN Jingguang G.
(Dep. of Chemical Engineering, Center for Catalytic Sci. and Technol. (CCST), Univ. of Delaware, Newark, DE 19716, USA)
,
WILLIS Brian G.
(Dep. of Chemical Engineering, Center for Catalytic Sci. and Technol. (CCST), Univ. of Delaware, Newark, DE 19716, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 516 号： 12 ページ： 3847-3854 発行年： 2008年04月30日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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