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文献
J-GLOBAL ID：200902282311295907
整理番号：04A0512713
新しい水溶性樹脂とそのマスク製造用のネガ及びポジ型EBレジストへの利用
New Aqueous-base Soluble Resin and Its Applicationto Negative and Positive Tone EB Resists for Mask-making
SHIRAISHI H
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
MIGITAKA S
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
ARAI T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
HATTORI T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
FUKUDA H
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 17 号： 4 ページ： 575-580 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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