文献
J-GLOBAL ID:200902282728219405
整理番号:05A0670897
Siウエハ微細欠陥検出を行うエバネセント光測定システムの開発
Development of an Evanescent Light Measurement System for Si Wafer Microdefect Detection
著者 (5件):
TAKAHASHI S.
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
NAKAJIMA R.
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MIYOSHI T.
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAKAYA Y.
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAKAMASU K.
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻:
295/296
ページ:
15-20
発行年:
2005年
JST資料番号:
D0744C
ISSN:
1013-9826
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)