文献
J-GLOBAL ID:200902282865131736
整理番号:05A0074320
極端に非対称な反射を用いたX線2結晶トポグラフィーによるシリコン結晶中の微小格子変形の測定
Measurements of Minute Lattice Distortions in Silicon Crystals by X-Ray Double-Crystal Topography Using Extremely Asymmetric Reflection
著者 (3件):
FUKUMORI T
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
FUTAGAMI K
(Kyushu Sangyo Univ., Fukuoka, JPN)
,
KUROKI K
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
43
号:
12
ページ:
8331-8334
発行年:
2004年12月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)