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文献
J-GLOBAL ID：200902284162595121
整理番号：05A0487706
反応性スパッタリングプロセスのヒステリシス効果の除去
Eliminating the hysteresis effect for reactive sputtering processes
NYBERG T.
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
BERG S.
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
HELMERSSON U.
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
HARTIG K.
(Cardinal CG, Wisconsin)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 86 号： 16 ページ： 164106.1-164106.3 発行年： 2005年04月18日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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