文献
J-GLOBAL ID:200902284590479683
整理番号:04A0091118
低圧MOCVD法によるZnを多量にドープしたInGaAsの低温成長
Growth of heavily Zn-doped InGaAs at low temperature by LP-MOCVD
著者 (6件):
LIN T
(Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
,
JIANG L
(Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
,
WEI X
(Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
,
WANG G H
(Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
,
ZHANG G Z
(Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
,
MA X Y
(Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
261
号:
4
ページ:
490-495
発行年:
2004年02月01日
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)