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文献
J-GLOBAL ID：200902285344044771
整理番号：05A1016259
集束イオンビームミリングにより作製した高アスペクト比ダイヤモンドナノコーンアレイの電界放出性
The field emission properties of high aspect ratio diamond nanocone arrays fabricated by focused ion beam milling
WANG Z.l.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
WANG Q.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
LI H.j.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
LI J.j.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
XU P.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
LUO Q.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
JIN A.z.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
YANG H.f.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
,
GU C.z.
(Lab. of Microfabrication, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100080, CHN)
資料名：
Science and Technology of Advanced Materials
(Science and Technology of Advanced Materials)
巻： 6 号： 7 ページ： 799-803 発行年： 2005年10月
JST資料番号： W1262A ISSN： 1468-6996 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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