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文献
J-GLOBAL ID：200902285471023244
整理番号：08A0729219
半導体リソグラフィー装置の歪調整の最適化
Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment
FUKAGAWA Youzou
(CANON INC. Utsunomiya Optical Products Operations)
,
SHINANO Yuji
(Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.)
,
NAKAMORI Mario
(Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.)
資料名：
Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing (Web)
(Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing (Web))
巻： 2 号： 3 ページ： 378-384 (J-STAGE) 発行年： 2008年
JST資料番号： U0027A ISSN： 1881-3054 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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