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文献
J-GLOBAL ID:200902285744868170   整理番号:08A0649672

32nmノードリソグラフィー用の1.3NA装置によるパターン形成の方法と性能

Patterning Strategy and Performance of 1.3NA Tool for 32nm Node Lithography
著者 (19件):
MIMOTOGI Shoji
(TOSHIBA CORP.)
SATAKE Masaki
(TOSHIBA CORP.)
KITAMURA Yosuke
(TOSHIBA CORP.)
TAKAHATA Kazuhiro
(TOSHIBA CORP.)
KODERA Katsuyoshi
(TOSHIBA CORP.)
FUJISE Hiroharu
(TOSHIBA CORP.)
EMA Tatsuhiko
(TOSHIBA CORP.)
SHO Koutaro
(TOSHIBA CORP.)
ISHIGO Kazutaka
(TOSHIBA CORP.)
KONO Takuya
(TOSHIBA CORP.)
ASANO Masafumi
(TOSHIBA CORP.)
YOSHIDA Kenji
(TOSHIBA CORP.)
KANAI Hideki
(TOSHIBA CORP.)
KYOH Suigen
(TOSHIBA CORP.)
HARAKAWA Hideaki
(TOSHIBA CORP.)
NOMACHI Akiko
(TOSHIBA CORP.)
ISHIDA Tatsuya
(TOSHIBA CORP.)
MIYASHITA Katsura
(TOSHIBA CORP.)
INOUE Soichi
(TOSHIBA CORP.)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 6924  号: Pt.1  ページ: 69240M.1-69240M.9  発行年: 2008年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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