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文献
J-GLOBAL ID：200902285901424280
整理番号：05A0807983
SiC:H膜の低周波数PACVDにおけるイオン/表面の相互作用の選択的効果:パートA 気相の考察
Selective effect of ion/surface interaction in low frequency PACVD of SiC:H films: Part A. Gas phase considerations
SOUM-GLAUDE A.
(CNRS-PROMES, Tecnosud- Rambla de la Thermodynamique, F-66100 Perpignan cedex, FRA)
,
THOMAS L.
(CNRS-PROMES, Tecnosud- Rambla de la Thermodynamique, F-66100 Perpignan cedex, FRA)
,
TOMASELLA E.
(CNRS-LMI, 24 Avenue des Landais, F-63177 Aubiere cedex, FRA)
,
BADIE J.m.
(CNRS-PROMES, BP5 Odeillo, F-66125 Font Romeu cedex, FRA)
,
BERJOAN R.
(CNRS-PROMES, BP5 Odeillo, F-66125 Font Romeu cedex, FRA)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 200 号： 1-4 ページ： 855-858 発行年： 2005年10月01日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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