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文献
J-GLOBAL ID：200902286787259718
整理番号：03A0509065
193nmフォトレジスト用の良好に制御された分子量と小さい多分散性を有する共重合体
Copolymers with Well-Controlled Molecular Weight and Low Polydispersity for 193 nm Photoresists
LEE T-Y
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
YU C-Y
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
HSU M-Y
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
HAYASHI R
(TOKYO OHKA KOGYO Co., LTD.)
,
IWAI T
(TOKYO OHKA KOGYO Co., LTD.)
,
CHEN J-H
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.)
,
HO B-C
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16 号： 4 ページ： 483-487 発行年： 2003年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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