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文献
J-GLOBAL ID：200902286846662874
整理番号：06A0789404
低温プロセスにおけるエキシマレーザアニーリングによる多結晶けい素膜の二次結晶粒成長に及ぼす水素の効果
Effect of Hydrogen on Secondary Grain Growth of Polycrystalline Silicon Films by Excimer Laser Annealing in Low-Temperature Process
HEYA Akira
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
MATSUO Naoto
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
MATSUMURA Hideki
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN)
,
KAWAMOTO Naoya
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45 号： 9A ページ： 6908-6910 発行年： 2006年09月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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