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文献
J-GLOBAL ID：200902287042574537
整理番号：08A0988130
高品質のヘテロ界面を持つエピタキシャル成長させた強磁性Fe3Si/Si(111)構造
Epitaxial ferromagnetic Fe3Si/Si(111) structures with high-quality heterointerfaces
HAMAYA K.
(Dep. of Electronics, Kyushu Univ., 744 Motooka, Fukuoka 819-0395, JPN)
,
UEDA K.
(Dep. of Electronics, Kyushu Univ., 744 Motooka, Fukuoka 819-0395, JPN)
,
KISHI Y.
(Dep. of Electronics, Kyushu Univ., 744 Motooka, Fukuoka 819-0395, JPN)
,
ANDO Y.
(Dep. of Electronics, Kyushu Univ., 744 Motooka, Fukuoka 819-0395, JPN)
,
SADOH T.
(Dep. of Electronics, Kyushu Univ., 744 Motooka, Fukuoka 819-0395, JPN)
,
MIYAO M.
(Dep. of Electronics, Kyushu Univ., 744 Motooka, Fukuoka 819-0395, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 93 号： 13 ページ： 132117 発行年： 2008年09月29日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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