文献
J-GLOBAL ID:200902287151992608
整理番号:05A1006226
プラズマエッチング装置内における粒子の低減と制御
Particle reduction and control in plasma etching equipment
著者 (6件):
MORIYA Tsuyoshi
(Tokyo Electron AT Ltd., Nirasaki, JPN)
,
NAKAYAMA Hiroyuki
(Tokyo Electron AT Ltd., Nirasaki, JPN)
,
NAGAIKE Hiroshi
(Tokyo Electron AT Ltd., Nirasaki, JPN)
,
KOBAYASHI Yoshyuki
,
SHIMADA Manabu
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima,)
,
OKUYAMA Kikuo
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima,)
資料名:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
(IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing)
巻:
18
号:
4
ページ:
477-486
発行年:
2005年11月
JST資料番号:
T0521A
ISSN:
0894-6507
CODEN:
ITSMED
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)