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文献
J-GLOBAL ID：200902287635881681
整理番号：04A0035422
H2O導入dcマグネトロンスパッタリングにより堆積したITO膜の微細構造
Microstructures of ITO films deposited by d.c. magnetron sputtering with H2O introduction
NISHIMURA E
(Aoyama Gakuin Univ., Kanagawa, JPN)
,
OHKAWA H
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
SONG P K
(Aoyama Gakuin Univ., Kanagawa, JPN)
,
SHIGESATO Y
(Aoyama Gakuin Univ., Kanagawa, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 445 号： 2 ページ： 235-240 発行年： 2003年12月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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