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文献
J-GLOBAL ID：200902287841481347
整理番号：06A0510591
イオン化物理蒸着(IPVD):技術と応用のレビュー
Ionized physical vapor deposition (IPVD): A review of technology and applications
HELMERSSON Ulf
(IFM Materials Sci., Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE)
,
LATTEMANN Martina
(IFM Materials Sci., Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE)
,
BOHLMARK Johan
(IFM Materials Sci., Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE)
,
EHIASARIAN Arutiun P.
(Materials and Engineering Res. Inst., Sheffield Hallam Univ., Howard St, Sheffield, S1 1WB, GBR)
,
GUDMUNDSSON Jon Tomas
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Iceland, Reykjavik, Iceland and Sci. Inst., Univ. of Iceland ...)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 513 号： 1-2 ページ： 1-24 発行年： 2006年08月14日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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