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文献
J-GLOBAL ID:200902288068331965   整理番号:06A0195751

Hf/Al組成比を調整して得られたHfAlOx(N)を有する相補型金属-酸化物-半導体電界効果トランジスタにおける対称なしきい値電圧

Symmetrical threshold voltage in complementary metal-oxide-semiconductor field-effect transistors with HfAlOx(N) achieved by adjusting Hf/Al compositional ratio
著者 (11件):
KADOSHIMA Masaru
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
OGAWA Arito
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
OTA Hiroyuki
(MIRAI, Advanced Semiconductor Res. Center (ASRC), National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST) ...)
IWAMOTO Kunihiko
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
TAKAHASHI Masashi
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
MISE Nobuyuki
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
MIGITA Shinji
(MIRAI, Advanced Semiconductor Res. Center (ASRC), National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST) ...)
IKEDA Minoru
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
SATAKE Hideki
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
NABATAME Toshihide
(MIRAI, Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
TORIUMI Akira
(MIRAI, Advanced Semiconductor Res. Center (ASRC), National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST) ...)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 99  号:ページ: 054506-054506-6  発行年: 2006年03月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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