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文献
J-GLOBAL ID：200902288292675092
整理番号：05A0192610
パルス及び連続rf励起を用いたc-C4F8からのフルオロカーボン薄膜のプラズマ堆積
Plasma deposition of fluorocarbon thin films from c-C4F8 using pulsed and continuous rf excitation
LABELLE C B
(Lucent Technol. Bell Labs, New Jersey)
,
OPILA R
(Lucent Technol. Bell Labs, New Jersey)
,
KORNBLIT A
(Lucent Technol. Bell Labs, New Jersey)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 23 号： 1 ページ： 190-196 発行年： 2005年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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